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三七特征,用能級示意圖表示X射線光電子特征X射線俄歇電子的概念 問

用能級示意圖表示X射線光電子特征X射線俄歇電子的概念問《材料現(xiàn)代分析方法》37頁下面的那個圈圈圖——特征X射線的產(chǎn)生34頁下面的圖——俄歇電子的產(chǎn)生至于X射線光電子的圖我覺得跟31頁下面的圖差不多,可照畫。PS:你是08級材料系的嗎?我……

1,用能級示意圖表示X射線光電子特征X射線俄歇電子的概念 問

《材料現(xiàn)代分析方法》37頁下面的那個圈圈圖——特征X射線的產(chǎn)生 34頁下面的圖——俄歇電子的產(chǎn)生 至于X射線光電子的圖我覺得跟31頁下面的圖差不多,可照畫。 PS:你是08級材料系的嗎?我北民大的,你呢?

三七特征

2,三七的特點有

呈類圓錐形或圓柱形,長1~6cm,直徑1~4cm。外皮呈光亮的灰綠色、灰褐色、棕黑色或帶有黃斑(習(xí)稱“鐵皮”)或灰黃色(習(xí)稱“銅皮”)。頂端較平或少有殘莖,底部有剪斷支根的痕跡,全體亦有凸起的瘤狀物、支根莖及A向皮孔,并有斷續(xù)的縱皺紋。體重,質(zhì)堅實,難折斷。A斷面灰綠色、黃綠色或灰白色,破碎后皮部與木部易分離,角質(zhì)樣,呈放射狀菊花心紋理。具特殊香氣,味先苦而后微回甜。

三七特征

3,37至47歲大運是偏印坐七殺坐偏財怎么解釋

偏印的主要特征http://www.luopan.com.cn/bbs/dispbbs.asp?boardid=13&id=1144 七殺(-金)強(qiáng)而悍,霸。 http://zhidao.baidu.com/question/16926600.html上述這些其實都是沒有科學(xué)依據(jù)的猜想,不要信它。
中年成熟成就事業(yè)

三七特征

4,乘法分配率的特點是什么急

乘法分配律兩個數(shù)的和同一個數(shù)相乘,等于把兩個加數(shù)分別同這個數(shù)相乘,再把兩個積加起來,結(jié)果不變。a×(b+c) =a×b+a×c例題: 25×404=25×(400+4)=25×400+25×4=10000+100=10100 乘法分配律的反用: 35×37+65×37 =37×(35+65) =37×100 =3700這就是乘法分配律。
乘法分配律:多個數(shù)(ai)相加減后再乘另一個數(shù)b, 等同于把a(bǔ)i的每個數(shù)分別和b相乘,再把積以相同的符號相加減。 乘法分配律的意義:每個被相加的數(shù)分別放大同樣的倍數(shù)后再相加,等同于這些數(shù)相加后再放大這個倍數(shù)。(通俗)大小不同的豬每頭吃食量放大n倍后的總飼料量,等于原來豬的總飼料量放大n倍。

5,三七的生物學(xué)特點及藥用價值

多年生草本,高達(dá)60cm。根莖短,莖直立,光滑無毛。掌狀復(fù)葉,具長柄,3~4片輪生于莖頂;小葉3~7,橢圓形或長圓狀倒卵形,邊緣有細(xì)鋸齒。傘形花序頂生,花序梗從莖頂中央抽出,長20~30cm?;ㄐ。S綠色;花萼5裂;花瓣、雄蕊皆為5。核果漿果狀,近腎形,熟時紅色。種子1~3,扁球形?;ㄆ?~8月,果期8~10月。入藥以身干,個大,體重,質(zhì)堅,表皮光滑,斷面灰綠色或灰黑色者為佳。   生于山坡叢林下。現(xiàn)多栽培于海拔800~1000m的山腳斜坡或土丘緩坡上。采制:種后第3年冬季及夏末初秋采挖。去須根,曝曬至半干,用手搓揉,再曝曬,重復(fù)數(shù)次,置麻袋中加蠟打光。保健主治   1.?dāng)U張血管、降低血壓,改善微循環(huán),增加血流量,預(yù)防和治療心腦組織缺血、缺氧癥;   2.促進(jìn)蛋白質(zhì)、核糖核酸(RNA)、脫氧核糖核酸(DNA)合成,強(qiáng)身健體;   3.促進(jìn)血液細(xì)胞新陳代謝,平衡調(diào)節(jié)血液細(xì)胞;   4.雙向調(diào)節(jié)中樞神經(jīng),提高腦力,增強(qiáng)學(xué)習(xí)和記憶能力;   5.增強(qiáng)機(jī)體免疫功能,抗腫瘤;   6.止血、活血化瘀;   7.保肝、抗炎;   8.延緩衰老;   雙向調(diào)節(jié)血糖、降低血脂、膽固醇、抑制動脈硬化

6,真三七的特點

真品三七是紡綞形或類圓錐形,長約1厘米~6厘米,直徑1厘米~4厘米,頸部有莖痕,周圍有瘤狀突起,側(cè)面有支根斷的痕跡,表面光亮,為灰綠色,帶有部分殘存的灰內(nèi)松皮,有橫向皮孔及不連續(xù)的縱皺紋。質(zhì)堅實,碎后皮質(zhì)分開,中央木質(zhì)部色較深,呈菊花心狀。以個大、質(zhì)堅、體重、皮細(xì)、斷面灰綠色或黃綠色,無裂紋,有菊花心者為佳。 偽品,一般以莪木的干燥根莖,呈卵形、圓錐形,表面為黃褐色,長3厘米~6厘米,有人工刀刻狀,似真品,  體重,質(zhì)輕,斷面為棕黃色,同真品比較明顯。經(jīng)過本人長期購買三七 得出 你也可以上南國三七網(wǎng)看看,我合格只是比較膚淺的說法 南國三七網(wǎng)有比較系統(tǒng),比較專業(yè)的解釋。
真品三七是紡綞形或類圓錐形,長約1厘米~6厘米,直徑1厘米~4厘米,頸部有莖痕,周圍有瘤狀突起,側(cè)面有支根斷的痕跡,表面光亮,為灰綠色,帶有部分殘存的灰內(nèi)松皮,有橫向皮孔及不連續(xù)的縱皺紋。質(zhì)堅實,碎后皮質(zhì)分開,中央木質(zhì)部色較深,呈菊花心狀。以個大、質(zhì)堅、體重、皮細(xì)、斷面灰綠色或黃綠色,無裂紋,有菊花心者為佳。 偽品,一般以莪木的干燥根莖,呈卵形、圓錐形,表面為黃褐色,長3厘米~6厘米,有人工刀刻狀,似真品,  體重,質(zhì)輕,斷面為棕黃色,同真品比較明顯。經(jīng)過本人長期購買三七 得出 你也可以上南國三七網(wǎng)看看,我合格只是比較膚淺的說法 南國三七網(wǎng)有比較系統(tǒng),比較專業(yè)的解釋。

7,細(xì)菌的三個特點

付費內(nèi)容限時免費查看回答您好,您的問題我已看到,正在為您查找答案,請稍候~1、細(xì)菌主要由細(xì)胞膜、細(xì)胞質(zhì)、核質(zhì)體等部分構(gòu)成,有的細(xì)菌還有莢膜、鞭毛、菌毛等特殊結(jié)構(gòu)。細(xì)胞核不成形。2、細(xì)菌的個體非常小,目前已知最小的細(xì)菌只有0.2微米長,因此大多只能在顯微鏡下看到它們。絕大多數(shù)細(xì)菌的直徑大小在0.5~5μm之間。3、細(xì)菌一般是單細(xì)胞,細(xì)胞結(jié)構(gòu)簡單,缺乏細(xì)胞核、細(xì)胞骨架以及膜狀胞器,例如線粒體和葉綠體?;谶@些特征,細(xì)菌屬于原核生物(Prokaryota)。4、細(xì)菌廣泛分布于土壤和水中,或者與其他生物共生。人體身上也帶有相當(dāng)多的細(xì)菌。據(jù)估計,人體內(nèi)及表皮上的細(xì)菌細(xì)胞總數(shù)約是人體細(xì)胞總數(shù)的十倍。此外,也有部分種類分布在極端的環(huán)境中,例如溫泉,甚至是放射性廢棄物中,它們被歸類為嗜極生物。5、細(xì)菌的營養(yǎng)方式有自養(yǎng)及異養(yǎng),其中異營的腐生細(xì)菌是生態(tài)系中重要的分解者,使碳循環(huán)能順利進(jìn)行。部分細(xì)菌會進(jìn)行固氮作用,使氮元素得以轉(zhuǎn)換為生物能利用的形式。更多4條
細(xì)菌是原核生物,(1)有細(xì)胞壁(主要成分為肽聚糖),具有細(xì)胞膜,沒有細(xì)胞器,(2)具有擬核,沒有染色體,(3)遺傳物質(zhì)為一環(huán)狀的dna分子。
細(xì)菌的個體非常小,目前已知最小的細(xì)菌只有0.2微米長,因此大多只能在顯微鏡下看到它們。細(xì)菌一般是單細(xì)胞,細(xì)胞結(jié)構(gòu)簡單,缺乏細(xì)胞核、細(xì)胞骨架以及膜狀胞器,例如粒線體和葉綠體。 補(bǔ)充: 細(xì)菌的主要特點1、沒有典型的細(xì)胞核結(jié)構(gòu):主要是由一個環(huán)狀DNA分子組成核區(qū),核區(qū)四周是濃密的細(xì)胞質(zhì)。環(huán)狀DNA分子以膜為支點,以θ模型的方式雙向復(fù)制,其DNA的復(fù)制不受細(xì)胞分裂周期的限制。2、細(xì)胞內(nèi)沒有分化出以膜為基礎(chǔ)的具有專門結(jié)構(gòu)與功能的細(xì)胞器。細(xì)胞膜具有多功能性,細(xì)胞膜上附有多種具有特殊功能的酶,因此細(xì)胞膜具有線粒體、內(nèi)質(zhì)網(wǎng)和高爾基體等多種細(xì)胞器的功能。3、細(xì)胞表面有許多特殊的結(jié)構(gòu)。如對DNA復(fù)制起支點作用的中膜體、起保護(hù)作用的細(xì)胞壁和莢膜,起運動作用的鞭毛等。4、核糖體的沉降系數(shù)為70S,有大亞基(50S)和小亞基(30S)構(gòu)成。5、細(xì)菌核外DNA,除核區(qū)DNA外,還存在可自我復(fù)制的遺傳因子,如質(zhì)粒。6、在惡劣條件下可形成特殊的結(jié)構(gòu),以有利于細(xì)菌的生存,如質(zhì)粒變異,產(chǎn)生抗性。形成內(nèi)生孢子(芽孢)等休眠體。7、細(xì)胞以直接分裂的方式增殖。其過程如下:(1)核區(qū)DNA分子與中膜體接觸。(2)環(huán)狀DNA分子以膜為支點,以θ模型的方式雙向復(fù)制。(3)遺傳物質(zhì)隨中膜體一分為二,形成兩個核區(qū)。(4)細(xì)胞膜在兩個核區(qū)之間凹陷,兩個子細(xì)胞分開,兩個新的細(xì)胞壁形成。

8,專利侵權(quán)等同原則中基本相同的功能效果涉案產(chǎn)品與專利區(qū)別技術(shù)

附圖可以用于解釋權(quán)利要求。該規(guī)定是指權(quán)利的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求書中明確記載的必要技術(shù)特征所確定的范圍為準(zhǔn),當(dāng)然也包括與該必要技術(shù)特征相同的特征所確定的范圍。 所謂等同特征,是指與發(fā)明專利或者實用新型專利的權(quán)利要求書所記載的技術(shù)特征以基本相同的手段,實現(xiàn)其基本相同的功能,從而達(dá)到其基本相同的效果,同時要求其技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員不需要經(jīng)過創(chuàng)造性的勞動就能夠聯(lián)想到的特征。 判斷發(fā)明專利,實用新型專利侵權(quán)的等同原則,是人民法院依據(jù)前面所說的手段,依據(jù)權(quán)利要求書、說明書、附圖等的內(nèi)容,確定其原告所提起訴訟的產(chǎn)品是否構(gòu)成專利侵權(quán)的斷定方法。 人民法院運用等同原則判定訴訟產(chǎn)品是否侵權(quán)有以下幾種方式: 一、產(chǎn)品部件的簡單移位或者方法步驟順序的簡單變換后,如果該產(chǎn)品或者該方法領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員認(rèn)為兩者之間沒有本質(zhì)區(qū)別,與產(chǎn)生的專利技術(shù)基本相同,則基本可認(rèn)定該產(chǎn)品侵權(quán); 二、等同替換。是將權(quán)利要求書中記載的某個技術(shù)特征,在被控侵權(quán)的產(chǎn)品或者方法中也存在一個對應(yīng)的技術(shù)特征,這兩個技術(shù)特征在產(chǎn)品或者方法中所起的作用或者效果基本相同,并且在所屬技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員一般都知道這兩個技術(shù)特征能夠相互替換,人民法院可以認(rèn)定訴訟產(chǎn)品侵權(quán); 三、分解或者合并技術(shù)特征。
你好呀。等同原則,是指被控侵權(quán)物中有一個或者一個以上的技術(shù)特征經(jīng)與專利獨立權(quán)利要求保護(hù)的技術(shù)特征進(jìn)行比較,從字面上不相同,但經(jīng)過分析可以認(rèn)定兩者是相同的技術(shù)特征。這種情況下,應(yīng)當(dāng)認(rèn)定被控侵權(quán)物落入了專利權(quán)的保護(hù)范圍。等同物應(yīng)當(dāng)是具體技術(shù)特征之間的彼此替換,而不是完整技術(shù)方案之間的彼此替換。適用等同原則判定侵權(quán),僅限于適用被控侵權(quán)物中的具體技術(shù)特征與專利獨立權(quán)利要求中相應(yīng)的必要技術(shù)特征是否等同,而不適用于被控侵權(quán)物的整體技術(shù)方案與獨立權(quán)利要求所限定的技術(shù)方案是否等同。即系以專利文件的權(quán)利要求,與涉嫌侵權(quán)產(chǎn)品的被控行為來對比。
附圖可以用于解釋權(quán)利要求。該規(guī)定是指權(quán)利的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求書中明確記載的必要技術(shù)特征所確定的范圍為準(zhǔn),當(dāng)然也包括與該必要技術(shù)特征相同的特征所確定的范圍。 所謂等同特征,是指與發(fā)明專利或者實用新型專利的權(quán)利要求書所記載的技術(shù)特征以基本相同的手段,實現(xiàn)其基本相同的功能,從而達(dá)到其基本相同的效果,同時要求其技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員不需要經(jīng)過創(chuàng)造性的勞動就能夠聯(lián)想到的特征。 判斷發(fā)明專利,實用新型專利侵權(quán)的等同原則,是人民法院依據(jù)前面所說的手段,依據(jù)權(quán)利要求書、說明書、附圖等的內(nèi)容,確定其原告所提起訴訟的產(chǎn)品是否構(gòu)成專利侵權(quán)的斷定方法。 人民法院運用等同原則判定訴訟產(chǎn)品是否侵權(quán)有以下幾種方式: 一、產(chǎn)品部件的簡單移位或者方法步驟順序的簡單變換后,如果該產(chǎn)品或者該方法領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員認(rèn)為兩者之間沒有本質(zhì)區(qū)別,與產(chǎn)生的專利技術(shù)基本相同,則基本可認(rèn)定該產(chǎn)品侵權(quán); 二、等同替換。是將權(quán)利要求書中記載的某個技術(shù)特征,在被控侵權(quán)的產(chǎn)品或者方法中也存在一個對應(yīng)的技術(shù)特征,這兩個技術(shù)特征在產(chǎn)品或者方法中所起的作用或者效果基本相同,并且在所屬技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員一般都知道這兩個技術(shù)特征能夠相互替換,人民法院可以認(rèn)定訴訟產(chǎn)品侵權(quán); 三、分解或者合并技術(shù)特征。
參照:北京市高級人民法院關(guān)于執(zhí)行《專利侵權(quán)判定若干問題的意見(試行)》的通知 (三)等同原則的適用 31、在專利侵權(quán)判定中,當(dāng)適用全面覆蓋原則判定被控侵權(quán)物(產(chǎn)品或方法)不構(gòu)成侵犯專利權(quán)的情況下,應(yīng)當(dāng)適用等同原則進(jìn)行侵權(quán)判定。 32、等同原則,是指被控侵權(quán)物(產(chǎn)品或方法)中有一個或者一個以上技術(shù)特征經(jīng)與專利獨立權(quán)利要求保護(hù)的技術(shù)特征相比,從字面上看不相同,但經(jīng)過分析可以認(rèn)定兩者是相等同的技術(shù)特征。這種情況下,應(yīng)當(dāng)認(rèn)定被控侵權(quán)物(產(chǎn)品或方法)落入了專利權(quán)的保護(hù)范圍。 33、專利權(quán)的保護(hù)范圍也包括與專利獨立權(quán)利要求中必要技術(shù)特征相等同的技術(shù)特征所確定的范圍。 34、等同特征又稱等同物。被控侵權(quán)物(產(chǎn)品或方法)中,同時滿足以下兩個條件的技術(shù)特征,是專利權(quán)利要求中相應(yīng)技術(shù)特征的等同物: (1)被控侵權(quán)物中的技術(shù)特征與專利權(quán)利要求中的相應(yīng)技術(shù)特征相比,以基本相同的手段,實現(xiàn)基本相同的功能,產(chǎn)生了基本相同的效果; (2)對該專利所屬領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說,通過閱讀專利權(quán)利要求和說明書,無需經(jīng)過創(chuàng)造性勞動就能夠聯(lián)想到的技術(shù)特征。 35、等同物應(yīng)當(dāng)是具體技術(shù)特征之間的彼此替換,而不是完整技術(shù)方案之間的彼此替換。 36、等同物代替包括對專利權(quán)利要求中區(qū)別技術(shù)特征的替換,也包括對專利權(quán)利要求中前序部分技術(shù)特征的替換。 37、判定被控侵權(quán)物(產(chǎn)品或方法)中的技術(shù)特征與專利獨立權(quán)利要求中的技術(shù)特征是否等同,應(yīng)當(dāng)以侵權(quán)行為發(fā)生的時間為界限。 38、適用等同原則判定侵權(quán),僅適用于被控侵權(quán)物(產(chǎn)品或方法)中的具體技術(shù)特征與專利獨立權(quán)利要求中相應(yīng)的必要技術(shù)特征是否等同,而不適用于被控侵權(quán)物(產(chǎn)品或方法)的整體技術(shù)方案與獨立權(quán)利要求所限定的技術(shù)方案是否等同。 39、進(jìn)行等同侵權(quán)判斷,應(yīng)當(dāng)以該專利所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員的專業(yè)知識水平為準(zhǔn),而不應(yīng)以所屬領(lǐng)域的高級技術(shù)專家的專業(yè)知識水平為準(zhǔn)。 40、進(jìn)行等同侵權(quán)判斷,對于開拓性的重大發(fā)明專利,確定等同保護(hù)的范圍可以適當(dāng)放寬;對于組合性發(fā)明或者選擇性發(fā)明,確定等同保護(hù)的范圍可以適當(dāng)從嚴(yán)。 41、對于故意省略專利權(quán)利要求中個別必要技術(shù)特征,使其技術(shù)方案成為在性能和效果上均不如專利技術(shù)方案優(yōu)越的變劣技術(shù)方案,而且這一變劣技術(shù)方案明顯是由于省略該必要技術(shù)特征造成的,應(yīng)當(dāng)適用等同原則,認(rèn)定構(gòu)成侵犯專利權(quán)。 42、在專利侵權(quán)判定中,下列情況不應(yīng)適用等同原則認(rèn)定被控侵權(quán)物(產(chǎn)品或方法)落入專利權(quán)保護(hù)范圍: (1)被控侵權(quán)的技術(shù)方案屬于申請日前的公知技術(shù); (2)被控侵權(quán)的技術(shù)方案屬于抵觸申請或在先申請專利; (3)被控侵權(quán)物中的技術(shù)特征,屬于專利權(quán)人在專利申請、授權(quán)審查以及維持專利權(quán)效力過程中明確排除專利保護(hù)的技術(shù)內(nèi)容。
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